半導體

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為先進半導體制造提供全面解決方案,提高您的工藝良率。

在半導體工廠中,微污染會帶來嚴峻的挑戰。康斐爾為半導體行業提供廣泛的解決方案,包括灰塵預濾器、HEPA和ULPA過濾器以及AMC控制解決方案等,可降低潔凈室顆粒和氣態化學污染物的濃度:將灰塵降至ISO 1級水平 ,將AMC降至ppb級別以下。

在潔凈室過濾中,AMC過濾和控制尤為重要

氣態化學污染物(AMC)對小尺寸的半導體制造有著特殊的挑戰。酸性氣體、堿性氣體、有機物、難熔性有機物和摻雜性有機物之間產生不必要的化學反應,影響晶圓表面和工藝設備的光學器件,從而在芯片生產過程中產生不良品,降低機臺設備的生產效率。

AMC在關鍵潔凈室制造工藝中日益發揮著重要的作用。隨著工藝要求越來越高,器件尺寸縮小,工藝控制面臨巨大壓力。晶圓可能要在工廠內存放整整一個月的時間,在最終產品出貨之前經歷數百個工藝制程。在該過程中任何微小的污染都會對晶圓廠的總良率產生巨大影響。

另一個挑戰在于,隨著大尺寸晶圓的普及,單個晶圓的成本增加,針對機臺控制納米級顆粒物和AMC污染的需求也相應增加。此外,在EUV機臺和多重曝光DUV光刻機中使用的無缺陷掩模的成本上升,給廠務端的系統控制以及量測機臺和掩膜版存儲等微環境的污染控制系統帶來了壓力。

保護您的工藝設備和晶圓,使其免受納米級顆粒物和氣態化學污染物影響

康斐爾解決方案在半導體制造環境中經過現場和實驗室驗證,包括光刻、蝕刻、擴散、金屬化、薄膜、離子注入、量測機臺以及光罩或晶圓存儲區域。

  • 工藝機臺空氣過濾器
  • 潔凈室空氣過濾器
  • 光刻機預過濾系統

節能、低釋氣的解決方案,專為廠務設施系統而設計

康斐爾的灰塵預濾器系列產品保證新風空調箱的最低能耗,保護HEPA過濾器,防止硼釋放。經過多年的發展,粘合劑技術和濾料化學性質不斷完善;康斐爾HEPA和ULPA過濾器能夠盡可能減少有機污染物的揮發(即低揮發性)。通過用于晶圓切割的排氣處理系統以及用于一般排氣備用系統的氣體凈化機組,保護您的環境免受工藝污染。

  • 無硼化纖預濾器
  • 極低能耗的預濾器
  • 低揮發性的HEPA和ULPA過濾器
  • 除塵器和氣體凈化機組,打造更潔凈的排氣

 

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